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直接結合鎂鉻磚是以SiO2小于2%的高純燒結鎂砂和鉻鐵礦為原料,通過高溫燒結而制成。鎂鉻晶粒之間為方鎂石方鎂石或方鎂石尖晶石的直接結合,少量硅酸鹽以孤立狀處于晶粒之間。直接結合磚在燒成過程中,鉻礦粒子縫隙中的硅酸鹽隨著溫度升高逐漸移入基質,使鉻礦粒子與方鎂石接觸,并向方鎂石晶內擴散溶解。高溫下,基質部分的方鎂石和鉻礦在硅酸鹽中溶解,冷卻時,在方鎂石晶內和晶粒邊界沉淀為脫溶粒子次生尖晶石或次生方鎂石,使之形成方鎂石~方鎂石和方鎂石尖晶石的直接結合,少量硅酸鹽相則孤立于晶粒之間。隨著燒成溫度提高,高溫下的溶解和冷卻時的脫溶加劇,晶間直接結合程度隨之提高。
產品性能:具有高溫結構強度高、荷重軟化溫度高,抗化學侵蝕能力強等特點。
應用領域:直接結合磚廣泛用于平爐爐頂、電弧爐、煉銅轉爐、閃速爐、RH、DH真空處理裝置、爐外精煉VOD爐、AOD爐、水泥回轉窯等。

直接結合鎂鉻磚理化指標

項目 指標
ZMG-16A ZMG-12A ZMG-8A ZMG-6
MgO  % ≥60 ≥68 ≥75 ≥75
Cr2O3  % ≥16 ≥12 ≥8 ≥6
SiO2  % ≤1.5 ≤1.5 ≤1.5 ≤2.5
顯氣孔率  % ≤18 ≤18 ≤18 ≤18
常溫耐壓強度  MPa ≥40 ≥45 ≥45 ≥45
0.2MPa荷重軟化開始溫度 ℃ ≥1700
 
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